Зеленоградский нанотехнологический центр завершил разработку электронно-лучевой литографии с техпроцессом 150 нм для создания чипов.
Машина умеет напрямую «рисовать» микросхемы без использования фотошаблонов, что важно для создания прототипов чипов и мелкосерийного производства. Сейчас два опытных образца проходят испытания.
Нюанс в том, что техпроцесс 150 нм соответствует уровню процессоров AMD Athlon и Intel Pentium начала 2000-х годов. До современных 3–2-нм техпроцессов, используемых в передовых чипах, ещё очень далеко.
При этом электронно-лучевая литография и не предназначена для массового выпуска процессоров: она работает значительно медленнее фотолитографии, зато позволяет быстро создавать опытные образцы и специализированные микросхемы, в том числе для научной, промышленной и космической техники.
Join the conversation.